本匀胶显影机专为半导体封装行业设计，用于晶圆或芯片载板光刻工艺中的光刻胶涂布与显影。设备采用旋涂与浸泡显影结合的方式，实现光刻胶均匀涂布及图形显影。系统紧凑，操作简便，适合研发、小批量生产及封装线生产使用。

浸泡式平板显影机（Immersion Panel Developer）主要应用于显示、光电及玻璃基板制造中的光刻显影工艺。设备采用浸泡式显影工艺（Immersion Development Process），通过显影液与曝光后的光刻胶充分接触，使可溶区域光刻胶选择性溶解，从而在基板表面形成稳定、精确的微细图形结构。
设备集成显影、DI水清洗及干燥工艺模块，能够有效提高显影均匀性及工艺稳定性。整机采用工业级自动化控制系统，支持多工艺配方管理，适用于研发、工艺开发以及批量生产环境。

浸泡式显影机（Immersion Panel Developer）专为PCB、DPC载板及精密电子器件和金属基板光刻工艺中的显影设计。设备采用浸泡式显影工艺（Immersion Development Process），使显影液与光刻胶充分接触，选择性溶解可溶区域光刻胶，从而形成高精度、稳定的线路图形。
设备集成显影、DI水清洗及干燥模块，可实现工艺均匀性和重复性。配备工业级PLC自动化控制系统，支持多配方管理，适用于研发、小批量验证及中大型批量生产。