桌上型半自动显影机

▍应用领域
 

MSD-100D用于对显影均匀性和一致性要求较高的表面处理工艺，适合硅片、磷化铟、碳化硅、氮化镓等。主要应用于2、4寸晶圆.适合高校、研究所客户。

▍特性规格

MSD-100D（Developer）主要应用于曝光后的显影工艺。该设备主要由显影腔单元、自动摆臂单元、以及供液系统、主轴系统、控制系统及排液系统等组成，整机采用框架结构，外表为镜面不锈钢，无尘且不吸附颗粒，工作方式为手动上下片，自动完成显影工艺。
 

显影单元基片采用真空吸附加四个挡柱固定方式。采用进口伺服电机，保证转速、加速度，控制精度高，重复性好；供液系统采用厂务或者压力容器直接供液方式。
 

控制系统由触摸屏和PLC控制模式，实时显示设备运行过程中各工艺功能执行情况。可实现完全自由的配方编辑，自由修改、编辑、存储、及调用工艺配方等。